노광장치 원리1 반도체 노광장치의 원리 및 향후전망! 1. 반도체 노광 장치란? 반도체 노광 장치는 반도체 제조 공정 중 실리콘 웨이퍼에 회로 패턴을 묘사하기 위한 장치가 됩니다. 회로 패턴의 원형이 되는 포토마스크에 강력한 자외광을 투과시켜 포토레지스트를 도포한 실리콘 웨이퍼에 회로 패턴을 전사합니다. 최근에는 미세한 회로 패턴을 미세화하기 위해 EUV라는 파장이 13nm인 레이저를 사용하는 장치도 있습니다. 위치결정 등이 매우 고정밀도로 요구되기 때문에 장치의 가격이 비쌉니다. 2. 반도체 노광 장치의 사용 용도 반도체 노광 장치는 MOS(금속 산화물 반도체)-FET(전계 효과 트랜지스터) 등의 반도체 소자를 포함한 IC(집적 회로)의 제조 공정에 있어서의 노광 공정에 사용됩니다. IC의 제조 공정에서는 실리콘 웨이퍼 상에서 포토리소그래피 및 에칭 사이.. 2022. 12. 31. 이전 1 다음
